AML-四轴超高真空位移台

产品详情

轴系 Axis	运动方式 Type	移动范围 Movement	整步分别率 Resolution	最大速度 Max.speed
Rz	旋转	360°	0.005°	10 °/s
Z	上下移动	150mm	1μm	2mm/s
Y	左右移动	50mm	5μm	10mm/s
X	前后移动	50mm	5μm	10mm/s
1，适应于真空度1x10^-8Pa=1x10^-10mBar 2，工作温度-65℃~+190℃ 3，烘烤温度：200℃ 4，承载：15kg

AML-4轴超高真空运动平台

轴系 Axis	运动方式 Type	移动范围 Movement	整步分别率 Resolution	最大速度 Max.speed
X	前后运动	100mm	5μm	5mm/s
Y	左右运动	100mm	5μm	5mm/s
Z	上下移动	100mm	5μm	5mm/s
R	旋转运动	360°	0.1°（可选择0.005°）	100rpm
1，适应于真空度1x10^-8Pa=1x10^-10mBar 2，工作温度-196℃~+190℃ 3, 耐辐照总吸收剂量：1x10⁶Gy